[发明专利]光学仪器、相位板及像形成方法有效
申请号: | 201710138918.6 | 申请日: | 2017-03-09 |
公开(公告)号: | CN107179601B | 公开(公告)日: | 2021-06-15 |
发明(设计)人: | 冈田昌也;岩永茂树 | 申请(专利权)人: | 希森美康株式会社 |
主分类号: | G02B21/00 | 分类号: | G02B21/00;G01N21/64 |
代理公司: | 北京市安伦律师事务所 11339 | 代理人: | 杨永波 |
地址: | 日本兵库县神户市*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种能够以简单的结构对复数个荧光的相位进行调制的光学仪器、相位板和像形成方法。所述光学仪器10具有:对以第1波长为中心波长的第1荧光施以第1相位调制并对以第2波长为中心波长的第2荧光施以第2相位调制的通用的相位调制掩膜50、让第1荧光和第2荧光入射相位调制掩膜50的同一入射区域的照射光学系统30、聚集经第1相位调制后的第1荧光和经第2相位调制后的第2荧光并形成与点扩展函数相应的像的聚光光学系统60。 | ||
搜索关键词: | 光学仪器 相位 形成 方法 | ||
【主权项】:
一种光学仪器,包括:对第1波长的光施以第1相位调制并对第2波长的光施以第2相位调制的通用的相位调制掩膜;使所述第1波长的光和所述第2波长的光入射所述相位调制掩膜的同一入射区域的照射光学系统;以及聚集经所述第1相位调制后的所述第1波长的光和经所述第2相位调制后的所述第2波长的光并形成与点扩展函数相应的像的聚光光学系统。
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