[发明专利]一种提高向列相液晶光调制器件衍射效率的方法有效

专利信息
申请号: 201710140201.5 申请日: 2017-03-10
公开(公告)号: CN106896546B 公开(公告)日: 2019-12-06
发明(设计)人: 孙长俐;陆建钢;张彬;刘诗雨;查升毫 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: G02F1/133 分类号: G02F1/133
代理公司: 31220 上海旭诚知识产权代理有限公司 代理人: 郑立<国际申请>=<国际公布>=<进入国
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种提高向列相液晶光调制器件衍射效率的方法,包括以下步骤:步骤一、将向列相液晶材料灌入液晶空间光调制器件中;步骤二、搭建相位深度测量系统,进行相位深度测量,电场加到公共电极和像素电极层两端,记录下相位深度‑灰度曲线;步骤三、搭建衍射效率测量系统,进行光束偏转衍射效率测量;步骤四、调制光调制器件,对其加载调制灰度图,依据相位深度‑灰度曲线对其进行调制,形成理想折射率形貌曲线。本发明的一种提高向列相液晶光调制器件衍射效率的方法,可在近红外波段达到6π高相位深度调制,能够提高向列相液晶光调制器件衍射效率,增大光调制器件的最大光束偏转角度。
搜索关键词: 一种 提高 液晶 调制 器件 衍射 效率 方法
【主权项】:
1.一种提高向列相液晶光调制器件衍射效率的方法,其特征在于,包括以下步骤:/n步骤一、将向列相液晶材料灌入液晶空间光调制器件中,以实现6π的相位深度;/n步骤二、搭建相位深度测量系统,进行相位深度测量,电场加到公共电极和像素电极层两端,记录下相位深度-灰度曲线;/n步骤三、搭建衍射效率测量系统,进行光束偏转衍射效率测量;/n步骤四、调制光调制器件,对所述光调制器件加载调制灰度图,依据相位深度-灰度曲线对其进行调制,形成理想折射率形貌曲线。/n
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