[发明专利]一种基于规则的亚分辨率辅助图形添加方法有效
| 申请号： | 201710141053.9 | 申请日： | 2017-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN107065430B | 公开（公告）日： | 2021-01-29 |
| 发明（设计）人： | 卢意飞 | 申请（专利权）人： | 上海集成电路研发中心有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/36 | 分类号： | G03F1/36;G03F1/38 |
| 代理公司： | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人： | 吴世华;陈慧弘 |
| 地址： | 201210 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于规则的亚分辨率辅助图形添加方法，包括：设计主图形，所述主图形为需要曝光显影的各种图形的集合；基于添加规则在主图形上添加亚分辨率辅助图形；进行光刻仿真；扫描仿真结果,计算主图形中各个图形经曝光后的尺寸，获取无法达到设计目标值或足够工作窗口的图形，设为工艺薄弱图形；在工艺薄弱图形周围空隙添加满足光刻版可制造性规则的至少一个旋转的亚分辨率辅助图形。通过在工艺薄弱图形附近增加旋转的亚分辨率辅助图形，在原本受限无法添加辅助图形的区域实现辅助图形的添加，进一步提升了主图形对比度。因此，本发明具有提升薄弱点工艺窗口的显著特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 规则 分辨率 辅助 图形 添加 方法 | ||
【主权项】：
一种基于规则的亚分辨率辅助图形添加方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤S01：设计主图形，所述主图形为需要曝光显影的各种图形的集合；步骤S02：基于添加规则在主图形上添加亚分辨率辅助图形；步骤S03：进行光刻仿真；步骤S04：扫描仿真结果,计算主图形中各个图形经曝光后的尺寸，获取无法达到设计目标值或足够工作窗口的图形，设为工艺薄弱图形；步骤S05：在工艺薄弱图形周围空隙添加满足光刻版可制造性规则的至少一个旋转的亚分辨率辅助图形。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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