[发明专利]基板处理装置、液处理方法以及存储介质

摘要

本发明提供一种基板处理装置、液处理方法以及存储介质。提供一种能够降低伴随膜的特性的差异而引起的去除宽度的变动的基板处理装置等。在向基板的周缘部供给处理液来去除膜的基板处理装置中，能够在基板的径向上移动的喷出部向被基板保持部保持并旋转的基板的周缘部喷出处理液。喷出位置设定部与制程中包含的膜的去除宽度对应地设定来自喷出部的处理液的喷出位置，特性信息获取部获取要去除的膜的特性信息。校正量获取部根据膜的特性信息获取对处理液的喷出位置进行校正的校正量，喷出位置校正部根据由校正量获取部获取到的校正量，对喷出部的处理液的喷出位置进行校正。

主权项

一种基板处理装置，向基板供给处理液来去除基板的周缘部的膜，该基板处理装置的特征在于，具备：基板保持部，其保持基板并且具备使基板旋转的旋转机构；喷出部，其向被所述基板保持部保持的基板的周缘部喷出所述处理液；喷出位置设定部，其与被输入的制程中包含的所述膜的去除宽度对应地设定处理液的喷出位置；移动机构，其根据由所述喷出位置设定部设定的喷出位置，使来自所述喷出部的处理液的喷出位置沿基板的径向移动；特性信息获取部，其获取要去除的膜的特性信息；校正量获取部，其根据由所述特性信息获取部获取到的膜的特性信息，获取对由所述喷出位置设定部设定的喷出位置进行校正的校正量；以及喷出位置校正部，其根据由所述校正量获取部获取到的校正量，对由所述喷出位置设定部设定的喷出位置进行校正。