[发明专利]一种清除光罩表面颗粒污染物的装置及清除方法在审
申请号: | 201710146462.8 | 申请日: | 2017-03-13 |
公开(公告)号: | CN106914454A | 公开(公告)日: | 2017-07-04 |
发明(设计)人: | 贾洪民;李德建;陈力均;朱骏 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | B08B5/02 | 分类号: | B08B5/02;B08B15/04;H01L21/67 |
代理公司: | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)31275 | 代理人: | 吴世华,陈慧弘 |
地址: | 201210 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种清除光罩表面颗粒污染物的装置,包括气枪,其特征在于,还包括出风单元和排气单元,所述出风单元位于所述气枪的上方,用于产生竖直向下的环境气流;所述光罩位于所述出风单元和气枪的中间,且水平转动;所述气枪包括气枪主体和气枪头,所述气枪头朝上并且对准光罩下表面持续吹出向上的清扫气流,用于清除光罩下表面颗粒污染物,所述排气单元位于所述气枪的下方,清除之后的颗粒污染物受到重力及向下的环境气流的作用,被所述排气单元吸走。本发明提供的一种清除光罩表面颗粒污染物的装置及清除方法,可有效地去除光罩表面颗粒污染物,并且不会有颗粒污染物印记残留,防止光罩二次污染。 | ||
搜索关键词: | 一种 清除 表面 颗粒 污染物 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种清除光罩表面颗粒污染物的装置,包括气枪,其特征在于,还包括出风单元和排气单元,所述出风单元位于所述气枪的上方,用于产生竖直向下的环境气流,环境气流竖直向下保证装置内始终处于所述环境气流中;所述光罩位于所述出风单元和气枪的中间,且水平转动;所述气枪包括气枪主体和气枪头,所述气枪相对于光罩移动,所述气枪头与所述气枪主体相夹一个钝角,所述气枪头对准光罩下表面持续吹出斜向上的清扫气流,用于清除光罩下表面颗粒污染物;所述排气单元位于所述气枪的下方,清除之后的颗粒污染物受到重力及向下的环境气流的作用,被所述排气单元吸走,所述气枪吹出的向上清扫气流在接触到光罩表面之后改变方向随着环境气流通过所述排气单元排出。
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