[发明专利]一种基于光场测量的光场高清晰成像方法有效

专利信息
申请号: 201710148060.1 申请日: 2017-03-13
公开(公告)号: CN106803892B 公开(公告)日: 2019-12-03
发明(设计)人: 刘欣城;马浩统;亓波;任戈;谢宗良;董理;陈丰;史建亮;崔占刚;张美丽 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: H04N5/232 分类号: H04N5/232
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种基于光场测量的光场高清晰成像方法,首先,计算出光场相机子孔径图像的位移,再平移子孔径图像对此位移进行补偿,通过恢复子孔径图像的对称性实现对大气湍流等像差的校正,最后再对对称的子孔径图像进行数字重聚焦实现高清晰成像,从而提高光场相机在受到大气湍流等像差影响时的成像分辨率。本发明是通过对光场相机自身记录的光线信息进行处理,最终达到高清晰成像的目的,没有添加其它的硬件设备,理论上可以克服所有破坏子孔径图像对称性的像差的影响。本发明简单易行,成本低,具有较广泛的适用范围。
搜索关键词: 一种 基于 测量 光场高 清晰 成像 方法
【主权项】:
1.一种基于光场测量的光场高清晰成像方法,其特征在于:该方法包含步骤如下:/n①、用光场相机拍摄目标,得到目标的原始光场数据,并提取出虚拟子孔径图像;/n②、对子孔径图像进行处理,对于点目标,通过质心算法计算出虚拟子孔径图像的质心,而对于扩展目标,选取参考子孔径图像,通过图像相关算法计算出虚拟子孔径图像和参考子孔径图像的相关矩阵,并由此求出子孔径图像的质心位移;/n③、平移虚拟子孔径图像,对此位移量进行补偿,恢复虚拟子孔径图像的对称性;/n④、对恢复对称性的子孔径图像进行数字重聚焦,得到目标高分辨率的复原图像。/n
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