[发明专利]合光装置及用于激光立体投影的光机结构在审

专利信息
申请号: 201710149651.0 申请日: 2017-03-14
公开(公告)号: CN107561725A 公开(公告)日: 2018-01-09
发明(设计)人: 张保峰;姜訢;朱伟华 申请(专利权)人: 北京一数科技有限公司
主分类号: G02B27/28 分类号: G02B27/28;G03B21/20;G02B26/08
代理公司: 北京康盛知识产权代理有限公司11331 代理人: 张宇峰
地址: 100013 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种用于激光立体投影的光机结构,包括发射第一基色光的P偏振光和S偏振光的激光源;发射第二基色光的P偏振光和S偏振光的激光源;发射第三基色光的P偏振光和S偏振光的激光源;设置在所有P偏振光和S偏振光传播路径上的合光装置,用于将所有P偏振光和S偏振光合束形成合光;和,设置在所述合光传播路径上的微机电系统MEMS,所述MEMS包括可旋转的光反射部分,用于将所述合光投射到成像区域形成扫描图像。
搜索关键词: 装置 用于 激光 立体 投影 结构
【主权项】:
一种用于激光立体投影的光机结构,其特征在于,包括:发射第一基色光的P偏振光和S偏振光的激光源;发射第二基色光的P偏振光和S偏振光的激光源;发射第三基色光的P偏振光和S偏振光的激光源;设置在所有P偏振光和S偏振光传播路径上的合光装置,用于将所有P偏振光和S偏振光合束形成合光;和,设置在所述合光传播路径上的微机电系统MEMS,所述MEMS包括可旋转的光反射部分,用于将所述合光投射到成像区域形成扫描图像。
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