[发明专利]成像光学系统在审

专利信息
申请号: 201710152934.0 申请日: 2017-03-15
公开(公告)号: CN107203032A 公开(公告)日: 2017-09-26
发明(设计)人: 臼井彬寿;高漥豊 申请(专利权)人: HOYA株式会社
主分类号: G02B13/00 分类号: G02B13/00;G02B13/06;G02B13/18
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司11314 代理人: 程伟,黄岳巍
地址: 日本东京都新*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种成像光学系统,包括正或负第一透镜组、光阑和正第二透镜组,所述第一透镜组包括最接近于物的负透镜元件。最接近于物的负透镜元件具有物侧非球面表面,所述非球面表面包括近轴凸表面、在有效孔径中最大的近轴曲率和在有效孔径内的具有比近轴曲率的1/2更小的曲率的部分。满足下述条件R1/f<1.35D1/f>0.4‑2.5<f1/f<‑1.3V>56“f”指示整体焦距;f1、R1和D1分别指示最接近于物的负透镜元件的焦距、物侧表面的近轴曲率半径和厚度;而V指示第二透镜组中最接近于光阑的透镜元件的关于d线的阿贝数。
搜索关键词: 成像 光学系统
【主权项】:
一种成像光学系统,从物侧按照顺序包括正或负第一透镜组、孔径光阑和正第二透镜组,其中,所述第一透镜组包括负透镜元件,所述负透镜元件设置为在所述第一透镜组中最接近于物侧,其中,最接近于物侧的负透镜元件包括在其物侧上的非球面表面,所述非球面表面包括凸向物侧的近轴凸表面、在有效孔径中最大的近轴曲率以及在有效孔径中的这样的部分:所述部分的曲率小于近轴曲率的1/2,以及其中满足下述条件(1)、(2)、(3)和(4):R1/f<1.35...(1),D1/f>0.4...(2),‑2.5<f1/f<‑1.3...(3),以及V>56...(4),其中f指示所述成像光学系统的焦距,f1指示在所述第一透镜组中设置为最接近于物侧的负透镜元件的焦距,R1指示在所述第一透镜组中设置为最接近于物侧的所述负透镜元件的物侧上的表面的近轴曲率半径,D1指示在所述第一透镜组中设置为最接近于物侧的所述负透镜元件的沿光轴的厚度,以及V指示在所述第二透镜组中设置为最接近于孔径光阑的透镜元件的关于d线的阿贝数。
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