[发明专利]一种用于光刻机的垂向控制方法有效
| 申请号： | 201710154051.3 | 申请日： | 2017-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN107966880B | 公开（公告）日： | 2019-01-11 |
| 发明（设计）人： | 陈丹;王献英;杨志勇 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于光刻机的垂向控制方法，包括以下步骤：步骤1、扫描曝光前，控制垂向测量传感器测量物料，获得所述物料的整体面形数据；步骤2、根据所述物料的整体面形数据执行全局调平；步骤3、扫描曝光每个曝光场时，采用垂向测量传感器实时测量所述物料的局部面形，根据所述物料的局部面形中Z向高度值、绕X向倾斜值及绕Y向倾斜值配置垂向控制模式，并根据所述垂向控制模式控制对应的垂向执行器垂向运动对所述物料的局部面形进行实时补偿，使每个曝光场的物料上表面与该曝光场的参考焦面重合；其中，所述垂向执行器包括掩模台、物料台及投影物镜，所述全局调平目标面为投影物镜的最佳焦面。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 光刻 控制 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于光刻机的垂向控制方法，其特征在于，所述光刻机由上至下包括照明系统、多掩模台、多投影物镜及一物料台，每个掩模台对应设置一个投影物镜；所述垂向控制方法包括以下步骤：步骤1、扫描曝光前，控制垂向测量传感器测量物料，获得所述物料的整体面形数据；步骤2、根据所述物料的整体面形数据执行全局调平；步骤3、扫描曝光每个曝光场时，采用垂向测量传感器实时测量所述物料的局部面形，根据所述物料的局部面形中Z向高度值、绕X向倾斜值及绕Y向倾斜值配置垂向控制模式，并根据所述垂向控制模式控制对应的垂向执行器垂向运动对所述物料的局部面形进行实时补偿，使每个曝光场的物料上表面与该曝光场的参考焦面重合；其中，所述垂向执行器包括掩模台、物料台及投影物镜，所述全局调平目标面为投影物镜的最佳焦面；所述配置的垂向控制模式为以下模式之一：(1)配置所述物料台做整体全局调平及由各个掩模台做逐场全局调平，控制各个投影物镜垂向运动对所述物料的局部面形进行实时补偿；(2)配置所述物料台做逐场全局调平，各个掩模台垂向运动对所述物料的局部面形进行补偿。
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