[发明专利]一种可连续调节电离室管道位置的装置及方法有效
| 申请号： | 201710154346.0 | 申请日： | 2017-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN106875989B | 公开（公告）日： | 2018-01-19 |
| 发明（设计）人： | 朱世雷;唐彬;王学杰;黄文;谢俊;陈玉山;姚健;王鹏 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院核物理与化学研究所 |
| 主分类号： | G21C17/00 | 分类号： | G21C17/00 |
| 代理公司： | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司51214 | 代理人： | 沈强 |
| 地址： | 621999 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种可连续调节电离室管道位置的装置及方法，目的在于解决现有电离室管道位置调节装置对电离室管道的位置调整非常困难，且调整是不连续的问题。本发明以现有电离室管道位置调节装置为基础，对装置的整体机构进行了全新的设计和改进，增加了转动调整件，并利用转动调整件与其他部件之间的相互配合，实现了电离室管道的连续调节，有效改变了现有电离室管道的调节方式，简化整体调节操作。本发明构思巧妙，设计合理，结构简单，使用方便，易于操作，具有较好的应用前景，值得大规模推广和应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 连续 调节 电离室 管道 位置 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种可连续调节电离室管道位置的装置，包括电离室管道、下支撑板，所述电离室管道包括管体、设置在管体下端的第一连接件，所述下支撑板上设置有若干个第一定位孔；其特征在于，还包括转动调整件，所述转动调整件包括盘体、与第一定位孔相配合的第二连接件，所述盘体与第二连接件固定连接，所述第二连接件与第一定位孔活动连接且第二连接件能相对第一定位孔转动，所述盘体上设置有与第一连接件相配合的第二定位孔且盘体通过第二定位孔能带动电离室管道相对下支撑板转动。
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