[发明专利]反应腔室及外延生长设备有效
| 申请号： | 201710156404.3 | 申请日： | 2017-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN108624955B | 公开（公告）日： | 2019-11-29 |
| 发明（设计）人： | 李凯 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/14 | 分类号： | C30B25/14 |
| 代理公司： | 11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒<国际申请>=<国际公布> |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种反应腔室及外延生长设备，其包括腔体和第一吹扫机构，在该腔体内设置有基座和旋转轴，其中，基座与腔体的底部之间存在间隙。在腔体的底部设置有开口，旋转轴的上端与基座连接，旋转轴的下端竖直向下穿过开口。第一吹扫机构用于通过开口向基座与腔体之间的间隙提供吹扫气体。本发明提供的反应腔室不仅可以使外延生长设备持续工作的时间延长，提高工艺效率；而且可以降低因腔室颗粒增多影响外延质量的风险。 | ||
| 搜索关键词： | 腔体 外延生长设备 反应腔室 旋转轴 开口 吹扫机构 吹扫气体 工艺效率 基座连接 时间延长 竖直向下 影响外延 上端 腔室 下端 体内 穿过 | ||
【主权项】：
1.一种反应腔室，其特征在于，包括腔体和第一吹扫机构，其中，在所述腔体内设置有基座和旋转轴，所述基座与所述腔体的底部之间存在间隙；在所述腔体的底部设置有开口，所述旋转轴的上端与所述基座连接，所述旋转轴的下端竖直向下穿过所述开口；/n所述第一吹扫机构用于通过所述开口向所述基座与所述腔体之间的间隙提供吹扫气体；并且，/n所述第一吹扫机构包括环形部件、第一进气管路和第一吹扫气体源，其中，/n所述环形部件环绕设置在所述旋转轴的外周，并与所述旋转轴形成环形空间；所述环形部件的上端与所述腔体的底部密封连接，所述开口位于所述环形部件上端的内侧；所述环形部件的下端设置有封堵部件，用以密封所述环形空间；/n所述第一进气管路与所述环形空间连接；/n所述第一吹扫气体源与所述第一进气管路连接，所述第一吹扫气体源通过所述第一进气管路向所述环形空间提供吹扫气体，进而向所述基座与所述腔体之间的间隙提供吹扫气体。/n
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