[发明专利]在流体中产生氧化气泡的系统和方法在审
申请号: | 201710156734.2 | 申请日: | 2017-03-16 |
公开(公告)号: | CN107413219A | 公开(公告)日: | 2017-12-01 |
发明(设计)人: | 刘佩诗;余义勇;何嘉仪 | 申请(专利权)人: | 纳米及先进材料研发院有限公司 |
主分类号: | B01F5/04 | 分类号: | B01F5/04;B01F5/06;C02F1/78;C02F101/36;C02F101/38 |
代理公司: | 深圳市瑞方达知识产权事务所(普通合伙)44314 | 代理人: | 张约宗,张秋红 |
地址: | 中国香港科学园科技*** | 国省代码: | 香港;81 |
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摘要: | 一种用于在流体中产生氧化气泡的系统,包括流体进口管;文丘里管,将具有氧化特性的媒介输送到流体中的具有微孔或微隙的组件;腔室,其围绕所述微孔或微隙,可以形成旋流以增加具有氧化特性的试剂和流体之间的接触时间并可在流体中生成氧化气泡;流体出口管,用于排出流体中的氧化气泡。该系统能够产生气泡直径小于500nm的氧化气泡。 | ||
搜索关键词: | 流体 产生 氧化 气泡 系统 方法 | ||
【主权项】:
一种用于在流体中产生氧化气泡的系统,包括:流体进口管;具有微孔或微隙的组件,其被配置成将具有氧化特性的媒介输送到所述流体中;腔室,其被配置成形成的旋流以增加所述具有氧化特性的试剂与所述流体之间的接触时间并且在所述流体中生成气泡;第一文丘里管,其连接在所述流体出口管和所述腔室之间中;以及流体出口管,其连接到所述腔室并且被配置成排出所述流体中的氧化气泡;其中,所述具有微孔或微缝的组件是附接到一个或多个管的端部的膜件或容器,在所述一个或多个管中,所述具有氧化特性的媒介通过其被注入到所述组件;以及其中,所述组件与所述腔室壁间隔约0.5mm或更小的间隙。
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