[发明专利]电子射束光刻系统有效
| 申请号： | 201710159862.2 | 申请日： | 2013-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN106933063B | 公开（公告）日： | 2019-01-18 |
| 发明（设计）人： | P.克鲁伊特;M.斯米茨 | 申请（专利权）人： | 迈普尔平版印刷IP有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01J37/317;H01J37/32;B82Y10/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈尧剑 |
| 地址： | 荷兰*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种电子射束光刻系统，包括：子束发生器，用于生成多个电子子束；子束操纵器，其包括孔径阵列，用于操纵所述多个电子子束；对准框架，其被布置成支撑所述子束操纵器；被布置成支撑所述对准框架的框架；用于产生等离子体的等离子体发生器，其中所述等离子体发生器包括其中可以形成等离子体的室，其中所述系统被设置成朝向所述孔径阵列引导在所述等离子体中形成的自由基，并且其中所述等离子体发生器的室被集成到所述对准框架中。 | ||
| 搜索关键词： | 电子 光刻 系统 | ||
【主权项】：
1.一种电子射束光刻系统，包括：子束发生器，用于生成多个电子子束；子束操纵器，其包括孔径阵列，用于操纵所述多个电子子束；对准框架，其被布置成支撑所述子束操纵器；框架，其被布置成支撑所述对准框架；用于生成等离子体的等离子体发生器，其中所述等离子体发生器包括其中可形成等离子体的室，其中所述系统被设置成朝向所述孔径阵列引导在所述等离子体中形成的自由基，并且其中所述等离子体发生器的所述室被集成到所述对准框架中。
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