[发明专利]真空开关管用陶瓷上釉工艺

摘要

本发明涉及一种真空开关管用陶瓷上釉工艺，属于陶瓷上釉技术领域。其通过烘干、上釉、烧釉、磨加工和清洗制备得到产品上釉后的真空开关管。本发明操作简单方便，能够全自动喷釉，有效控制釉水层的厚度，避免釉水过多导致产品粘结。

主权项

真空开关管用陶瓷上釉工艺，其特征是步骤如下：（1）烘干：将产品真空开关管进行清洗后，随后对其烘干，使其表面温度为280~320℃；（2）上釉：配置釉水如下：取85~90份的长石，1~5份氧化硅和8~12份去离子水，充分搅拌均匀制成釉水，使用上釉设备在步骤（1）所得真空开关管的陶瓷表面喷洒100~500nm的釉水层；（3）烧釉：①将步骤（2）所得上釉后的真空开关管陶瓷体放置在窑车上的承烧板上，产品可叠加，陶瓷体的顶端面距离炉膛顶部为30~50mm；②窑车从升温区经过加热区推向冷却区，加热区的温度控制在1250~1550℃，推进速度10~15mm/min，通过升温区的总耗时控制在10~15h，通过加热区的总耗时控制在2~6h，通过冷却区的总耗时控制在8~15h，得到烧结后的真空开关管；（4）磨加工：使用双端面磨床研磨步骤（3）所得真空开关管陶瓷两端，使得端面粗糙度控制在1.2~1.8nm；（5）清洗：将步骤（4）研磨后的真空开关管放入水中，使用超声波清洗1~2小时，超声频率为20‑40Hz。