[发明专利]一种光罩及清洁装置在审
| 申请号： | 201710165797.4 | 申请日： | 2017-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN106842811A | 公开（公告）日： | 2017-06-13 |
| 发明（设计）人： | 张瑞军;莫超德;范志翔;卢马才;蔡小龙 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/38 | 分类号： | G03F1/38;G03F1/82 |
| 代理公司： | 北京聿宏知识产权代理有限公司11372 | 代理人： | 吴大建 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及液晶显示器技术领域，具体涉及一种光罩及清洁装置。包括石英玻璃板、透明导电膜、半透明膜和金属框；其中，在石英玻璃板的下面设有金属框，半透明膜设置在金属框的下端，在石英玻璃板的上面和半透明膜的下面均设有透明导电膜。本发明通过在光罩表面设置透明导电膜，对透明导电膜通电，使得掉落在光罩上的异物带电；再通过光罩清洁装置，通过相反电性的上清洁板和下清洁板吸附异物，达到对光罩表面异物洁净方便快捷的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洁 装置 | ||
【主权项】：
一种光罩，其特征在于，包括：石英玻璃板(12)、透明导电膜(11)、半透明膜(15)和金属框(14)；其中，在所述石英玻璃板(12)的下面设有所述金属框(14)，所述半透明膜(15)设置在所述金属框(14)的下端，在所述石英玻璃板(12)的上面和所述半透明膜(15)的下面均设有所述透明导电膜(11)。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
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