[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示面板在审

专利信息
申请号: 201710169661.0 申请日: 2017-03-21
公开(公告)号: CN106887439A 公开(公告)日: 2017-06-23
发明(设计)人: 金慧俊 申请(专利权)人: 上海中航光电子有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司11204 代理人: 王达佐,马晓亚
地址: 201108 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 本申请公开了一种阵列基板及其制作方法、显示面板,该阵列基板的制作方法包括在衬底的一侧表面依次覆盖遮光材料层、第一绝缘层、半导体层和源漏金属层,并利用第一半色调掩模板曝光显影形成晶体管源极、晶体管漏极、有源层和遮光层;在晶体管源极和晶体管漏极上覆盖第二绝缘层,利用第二掩模板曝光显影形成贯穿第二绝缘层的第一通孔,且第一通孔暴露晶体管漏极;在第二绝缘层上依次覆盖电极材料层和栅极金属层,利用第三半色调掩模板曝光显影形成晶体管栅极、像素电极和公共电极,其中,像素电极覆盖第一通孔,像素电极通过第一通孔与晶体管漏极电连接。上述制作方法可以三次利用掩模板完成阵列基板的制作,降低了阵列基板的生产成本。
搜索关键词: 阵列 及其 制作方法 显示 面板
【主权项】:
一种阵列基板的制作方法,其特征在于,包括:在衬底的一侧表面依次覆盖遮光材料层、第一绝缘层、半导体层和源漏金属层,并利用第一半色调掩模板曝光显影形成晶体管源极、晶体管漏极、有源层和遮光层,其中,所述晶体管源极和晶体管漏极位于所述源漏金属层,所述有源层位于所述半导体层,所述遮光层位于所述遮光材料层;在所述晶体管源极和晶体管漏极上覆盖第二绝缘层,利用第二掩模板曝光显影形成贯穿所述第二绝缘层的第一通孔,且所述第一通孔暴露所述晶体管漏极;在所述第二绝缘层上依次覆盖电极材料层和栅极金属层,利用第三半色调掩模板曝光显影形成晶体管栅极、像素电极和公共电极,其中,所述像素电极和所述公共电极在所述电极材料层交替排列,所述像素电极覆盖所述第一通孔,所述像素电极通过所述第一通孔与所述晶体管漏极电连接。
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