[发明专利]版图重复单元光学邻近效应修正一致性检查方法

摘要

本发明提供一种版图重复单元光学邻近效应修正一致性检查方法，先建立包含有所有所述基准图形对应的原始设计层和所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层的图形库，然后将所述图形库中所有所述基准图形对应的原始设计层与版图的原始设计的每一区域完全匹配成功的该基准图形对应的所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层，与所述图形库中所有所述基准图形对应的所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层作异或运算，得到差异以及对应的差异值，对上述差异中大于可接受差异值的进行归类，减少差异种类，这样就可以将数以千万级的差异归纳为几种或者数十种差异，大大提升了版图设计修正工作在重复区域修正一致性检查工作准确性与效率。

主权项

一种版图重复单元光学邻近效应修正一致性检查方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一：提供一版图的原始设计，选取任意一个最小单元图形作为基准图形，每个基准图形包括该最小单元图形对应的原始设计层以及所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层，截取所有所述基准图形对应的原始设计层和所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层存入图形库中；步骤二：将所述图形库中所有所述基准图形对应的原始设计层与版图的原始设计的每一区域进行匹配，若完全匹配成功，则找出该基准图形对应的所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层，与所述图形库中所有所述基准图形对应的所述原始设计层被光学邻近效应修正的图层作异或运算，得到差异以及对应的差异值；步骤三：设定可接受差异值，在步骤二中得到的差异值中选取大于所述可接受差异值的差异，将选取得到的差异属于同一类的进行归类。