[发明专利]用于检测链霉素的链霉素分子印迹‑量子点聚合物及制备方法在审
申请号: | 201710183754.9 | 申请日: | 2017-03-24 |
公开(公告)号: | CN107099293A | 公开(公告)日: | 2017-08-29 |
发明(设计)人: | 吕斌;刘燕婕;万迎春;钟剑;叶磊;吴中乔;邓耘;项阳 | 申请(专利权)人: | 武汉汉瑞隆德检测技术有限公司 |
主分类号: | C09K11/88 | 分类号: | C09K11/88;C09K11/02;G01N21/64 |
代理公司: | 武汉开元知识产权代理有限公司42104 | 代理人: | 马辉 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开一种用于检测链霉素的链霉素分子印迹‑量子点聚合物及制备方法,包括以下步骤,首先在量子点表面修饰二氧化硅壳层得到二氧化硅壳层量子点,然后在二氧化硅壳层量子点的表面修饰硅烷化苯硼酸和链霉素得到量子点复合物,最后将量子点复合物中链霉素洗脱下来得到具有链霉素空间识别位点和苯硼酸‑糖基亲和结合位点的链霉素分子印迹‑量子点聚合物。该链霉素分子印迹‑量子点聚合物能可特异、快速、灵敏、高通量地检测链霉素含量。 | ||
搜索关键词: | 用于 检测 链霉素 分子 印迹 量子 聚合物 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种用于检测链霉素的链霉素分子印迹‑量子点聚合物的制备方法,其特征在于:包括以下步骤,首先在量子点表面修饰二氧化硅壳层得到二氧化硅壳层量子点,然后在二氧化硅壳层量子点的表面修饰硅烷化苯硼酸和链霉素得到量子点复合物,最后将量子点复合物中链霉素洗脱下来得到具有链霉素空间识别位点和苯硼酸‑糖基亲和结合位点的链霉素分子印迹‑量子点聚合物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉汉瑞隆德检测技术有限公司,未经武汉汉瑞隆德检测技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710183754.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。