[发明专利]n型晶体硅太阳电池及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710188475.1 申请日: 2017-03-27
公开(公告)号: CN106847983B 公开(公告)日: 2019-03-12
发明(设计)人: 麦耀华;陈兵兵;葛坤鹏;沈艳娇;许颖;陈剑辉 申请(专利权)人: 河北大学
主分类号: H01L31/068 分类号: H01L31/068;H01L31/0224;H01L31/18
代理公司: 石家庄国域专利商标事务所有限公司 13112 代理人: 胡素梅;苏艳肃
地址: 071002 河北*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明提供了一种n型晶体硅太阳电池及其制备方法。所述n型晶体硅太阳电池的背场是通过n型晶体硅和n型晶体硅背面的低功函材料来实现的;低功函材料为低功函金属或低功函合金;低功函金属可以为镁、锗、锂、钕或钙等,低功函合金可以为镁钕合金、镁锗合金、镁锂合金、锗锂合金或钙镁锗锂合金等。将低功函金属或低功函合金制作在n型晶体硅的背面,可实现能带弯曲,形成“n‑n+”高低结,进而可驱赶空穴,增强电子的传输功能,使电池获得高的开路电压及短路电流,提高电池的效率。而且,制备过程简单,成本低,无需高温,无需后退火处理,还不会给硅片带来损伤,也不会对环境造成污染。
搜索关键词: 晶体 太阳电池 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种n型晶体硅太阳电池,其特征是,所述n型晶体硅太阳电池的背场是通过n型晶体硅和n型晶体硅背面的低功函材料来实现的;低功函材料的功函数小于n型晶体硅的功函数,在n型晶体硅与低功函材料的界面处可实现能带弯曲,形成“n‑n+”高低结,进而实现背场作用;n型晶体硅背面的低功函材料为镁、锂、钕、钙、镁钕合金、镁锗合金、镁锂合金、锗锂合金或钙镁锗锂合金;n型晶体硅背面的低功函材料的成型方式为薄膜或电子浆料。
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