[发明专利]用于制造MEMS微反射镜设备的工艺以及相关联设备

摘要

公开了用于制造MEMS微反射镜设备的工艺以及相关联设备。一种用于从采用半导体材料的单体本体(104)中制造MEMS微反射镜设备的工艺。初始地，掩埋空腔(106)形成于该单体本体中并且在底部界定悬置膜(105)，该悬置膜被安排在该掩埋空腔(106)与该单体本体(104)的主表面(104A)之间。然后，对该悬置膜(105)进行限定以便形成支撑框架(115)和可移动质量块(114)，该可移动质量块可围绕轴线(C)旋转并且由该支撑框架(115)承载。该可移动质量块形成振荡质量块(107)、支撑臂(109)、弹簧部分(111)以及梳齿连接至固定电极(113)的可移动电极(112)。在该振荡质量块(107)的顶部上形成反射区域(145)。

主权项

1.一种MEMS技术中用于制造微反射镜设备的工艺，所述工艺包括以下步骤：在采用半导体材料的单体本体(104)中形成掩埋空腔(106)，所述单体本体具有第一主表面和第二主表面(104A，104B)，所述掩埋空腔(106)在底部界定被布置在所述掩埋空腔(106)与所述第一主表面(104A)之间的悬置膜(105)；限定所述悬置膜(105)以便形成支撑框架(115)和可移动质量块(114)，所述可移动质量块由所述支撑框架(115)承载并且可围绕与所述第一主表面(104A)平行的轴线(C)旋转；形成电绝缘区域(120)，所述电绝缘区域从所述单体本体(104)的所述第一主表面(104A)一直到所述空腔(106)沿着将所述支撑框架(115)与固定支撑区域(122)电分离的线在所述悬置膜(105)周围外围地延伸；以及在所述可移动质量块的顶部形成反射区域(145)，其中形成电绝缘区域(120)包括：在所述悬置膜(105)中形成多个孔(118)，所述孔(118)从所述第一主表面(104A)延伸至所述掩埋空腔(106)并且通过悬置桥(119)彼此间隔开；以及将所述悬置桥(119)完全热氧化。