[发明专利]一种基于光谱曲面匹配的土壤类型识别方法有效

专利信息
申请号: 201710192544.6 申请日: 2017-03-28
公开(公告)号: CN107192671B 公开(公告)日: 2018-09-18
发明(设计)人: 解宪丽;李安波;李德成 申请(专利权)人: 中国科学院南京土壤研究所;南京师范大学
主分类号: G01N21/25 分类号: G01N21/25
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 唐循文
地址: 210000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种基于光谱曲面匹配的土壤类型识别方法,首先,针对待识别土壤剖面各发生层的光谱反射率进行剖面深度插值处理和一阶求导处理,生成待识别土壤剖面的光谱曲面;然后,分别针对土壤样本库中的各个土壤剖面,针对土壤剖面各发生层的光谱反射率,进行剖面深度插值处理和一阶求导处理,生成各个土壤剖面的光谱曲面;最后进行光谱曲面匹配,识别出待识别土壤剖面的土壤类型。如此,基于土壤剖面的光谱反射率进行深度插值处理、求导处理、光谱曲面生成,以及光谱曲面相似性判别,整合利用土壤剖面中不同深度土壤光谱数据进行匹配,实现最终土壤类型的识别。
搜索关键词: 一种 基于 光谱 曲面 匹配 土壤 类型 识别 方法
【主权项】:
1.一种基于光谱曲面匹配的土壤类型识别方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤一.针对待识别土壤剖面各发生层的光谱反射率,分别进行剖面深度插值处理和一阶求导处理,获得待识别土壤剖面的光谱曲面,然后进入步骤二;步骤二.分别针对土壤样本库中的各个土壤剖面,针对土壤剖面各发生层的光谱反射率,进行剖面深度插值处理和一阶求导处理,分别获得各个土壤剖面的光谱曲面,然后进入步骤三;其中,上述步骤一中和步骤二中,针对土壤剖面各发生层的光谱反射率,按如下步骤1至步骤4,进行剖面深度插值处理和一阶求导处理,获得土壤剖面的光谱曲面;步骤1.针对土壤剖面,获得各发生层的光谱反射率的集合P={pij|i=1,…,n;j=1,…,m},其中,n为光谱波段数,m为土壤剖面所对应发生层的数量,pij表示土壤剖面第j个发生层在波段i处的反射率值;步骤2.采用等积二次样条插值方法,针对土壤剖面各发生层的反射率值pij,进行深度插值处理,获得预设距离间隔、不同深度处的土壤光谱反射率P'={pa′ij'|i=1,…,n;j'=1,…,m'},其中,m'表示插值后的土壤光谱曲线数量,pa′ij'表示插值所生成的第j'条光谱曲线在波段i处的反射率值;步骤3.针对经深度插值处理所获得的土壤光谱反射率,首先进行11点移动平均平滑处理,然后采用Savitzky‑Golay卷积求导法计算21点二次多项式平滑的光谱反射率一阶导数;步骤4.针对光谱反射率一阶导数,以波段为横坐标,以剖面深度为纵坐标,生成光谱曲面;步骤三.按如下步骤3‑1至步骤3‑2,根据土壤样本库中各个土壤剖面的光谱曲面,针对待识别土壤剖面的光谱曲面,基于平均Hausdorff距离进行光谱曲面匹配,识别出待识别土壤剖面的土壤类型;步骤3‑1.分别针对土壤样本库中各个土壤剖面的光谱曲面,计算获得各土壤剖面光谱曲面分别与待识别土壤剖面光谱曲面之间的平均Hausdorff距离;步骤3‑2.获得最小平均Hausdorff距离所对应的土壤剖面的土壤类型,即为待识别土壤剖面的土壤类型。
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