[发明专利]一种成膜装置、成膜方法及成膜源有效

专利信息
申请号: 201710192899.5 申请日: 2017-03-28
公开(公告)号: CN106967951B 公开(公告)日: 2019-06-04
发明(设计)人: 田宁;赵云;张为苍;李建华;杨辅 申请(专利权)人: 信利半导体有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/54
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 邓义华;陈卫
地址: 516600 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种成膜装置、成膜方法及成膜源。该成膜装置包括具有成膜室、成膜源,成膜源包括加热坩埚、和至少两个缓冲件以及驱动件;其中,加热坩埚包括用于收容成膜材料的坩埚以及用于加热所述坩埚内的成膜材料的加热件;每一缓冲件包括恒温容器、位于恒温容器底部的下阀门、位于恒温容器顶部的上阀门和出气口、用于检测恒温容器的气压的压力传感器。本成膜装置控制膜厚时,无需要知道具体的材料蒸气压与温度之间的对应关系,只需要了解恒温容器的压力与膜厚之间的简单关系,简化工作难度,提高生产效率以及良品率。
搜索关键词: 一种 装置 方法 成膜源
【主权项】:
1.一种成膜装置,其具有把室内设置成真空或减压状态的成膜室、和在该成膜室内将成膜材料成膜于基板上的被成膜面上的成膜源,其特征在于,所述成膜源包括将成膜材料加热使其蒸发或升华为气态的加热坩埚、和与加热坩埚气密连通的至少两个缓冲件以及用于实现每一缓冲件伸缩移动的驱动件;其中,所述加热坩埚包括用于收容所述成膜材料的坩埚以及用于加热所述坩埚内的成膜材料的加热件;每一所述缓冲件包括与所述坩埚气密连通的恒温容器、位于所述恒温容器底部的下阀门、位于所述恒温容器顶部的上阀门和出气口、用于检测所述恒温容器的气压的压力传感器;所述成膜装置还包括控制器,其分别与所述加热件、下阀门、上阀门、压力传感器及驱动件连接控制。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于信利半导体有限公司,未经信利半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710192899.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top