[发明专利]一种高亮度LED芯片结构及其制备方法

摘要

本发明提供了一种高亮度LED芯片结构及其制备方法，该高亮度LED芯片在厚度方向依次包括衬底、缓冲层、N‑GaN层、量子阱层及P‑GaN层，N‑GaN层为包括上台阶部和下台阶部的台阶型结构，量子阱层及P‑GaN层依次设置在上台阶部上方，下台阶部的N‑GaN上直接设置有N区围坝结构，其中N区围坝结构中间区域设置有N电极、P‑GaN层上设置有P电极，N区围坝结构为一端由N‑GaN层的下台阶部封闭的空心的柱体状，且在其朝向P电极的一侧不留缺口或留有用于电流流出的缺口，围坝结构高度为0.7um～5um，且大于等于其所包围的N电极高度，N区围坝结构为含GaN的结构，其宽度为4um～40um。本发明的LED芯片结构制作方法简单，有利于提高芯片亮度，同时不会出现由于LED芯片挤金现象而造成的安全问题。

主权项

一种高亮度LED芯片结构，其特征在于，所述LED芯片在厚度方向依次包括衬底、外延层和电极，且所述外延层包括缓冲层、N‑GaN层、量子阱层及P‑GaN层，N‑GaN层为包括上台阶部和下台阶部的台阶型结构，量子阱层及P‑GaN层依次设置在所述上台阶部上方，所述下台阶部的N‑GaN上设置有N区围坝结构，所述电极包括设置在所述N区围坝结构中间区域的N电极和设置在P‑GaN层上的P电极，所述N区围坝结构为一端由所述N‑GaN层的下台阶部封闭的空心的柱体状，所述围坝的侧壁上不留缺口或留有用于电流流出的缺口，所述围坝结构高度为0.7um～5um，且N区围坝结构的高度大于等于其所包围的N电极高度，N区围坝结构的宽度为4um～40um，所述N区围坝结构为含GaN的结构。