[发明专利]电子照相感光体、处理盒和图像形成装置有效
| 申请号： | 201710197198.0 | 申请日： | 2017-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN107844036B | 公开（公告）日： | 2022-08-30 |
| 发明（设计）人： | 川崎晃弘 | 申请（专利权）人： | 富士胶片商业创新有限公司 |
| 主分类号： | G03G5/147 | 分类号： | G03G5/147 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 庞东成;龚泽亮 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种电子照相感光体、处理盒和图像形成装置，电子照相感光体包括导电性基体及设置在导电性基体上、用作电子照相感光体最外表面的感光层。电子照相感光体满足YC‑YA≥0.1MPa、YC‑YB≥0.1MPa及YC≤4.5MPa，其中YA、YB和YC(MPa)各自表示分别在感光层的端部A、端部B和中心部C处通过纳米压痕法在压痕深度为500nm时确定的感光层表面的杨氏模量，端部A和端部B在电子照相感光体的轴向上朝向感光层的中心从距感光层各自边缘10mm的位置延伸到距感光层各自边缘70mm的位置，中心部C在电子照相感光体的轴向上从感光层的中心前方20mm的位置延伸到感光层的中心后方20mm的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 电子 照相 感光 处理 图像 形成 装置 | ||
【主权项】：
一种电子照相感光体，其特征在于，包括：导电性基体；以及设置在所述导电性基体上的感光层，所述感光层用作所述电子照相感光体的最外表面，其中，YA、YB和YC满足以下式(1)至(3)：YC‑YA≥0.1MPa (1)YC‑YB≥0.1MPa (2)YC≤4.5MPa (3)，其中，YA、YB和YC(MPa)各自表示通过纳米压痕法在压痕深度为500nm时确定的所述感光层的表面的杨氏模量，YA在所述感光层的端部A处测量，所述端部A在所述电子照相感光体的轴向上朝向所述感光层的中心从距所述感光层的边缘10mm的位置延伸到距所述感光层的所述边缘70mm的位置，YB在所述感光层的另一端部B处测量，所述端部B在所述电子照相感光体的所述轴向上朝向所述感光层的中心从距所述感光层的另一边缘10mm的位置延伸到距所述感光层的所述另一边缘70mm的位置，YC在所述感光层的中心部C处测量，所述中心部C在所述电子照相感光体的所述轴向上从所述感光层的中心前方20mm的位置延伸到所述感光层的中心后方20mm的位置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片商业创新有限公司，未经富士胶片商业创新有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710197198.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
