[发明专利]一种提高GaN L-FER反向击穿电压的器件结构及实现方法有效
| 申请号： | 201710197227.3 | 申请日： | 2017-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN108666360B | 公开（公告）日： | 2021-08-03 |
| 发明（设计）人： | 王茂俊;高静楠;尹瑞苑;郝一龙 | 申请（专利权）人： | 北京大学 |
| 主分类号： | H01L29/06 | 分类号： | H01L29/06;H01L29/45;H01L29/47;H01L21/335;H01L29/778 |
| 代理公司： | 北京万象新悦知识产权代理有限公司 11360 | 代理人： | 苏爱华 |
| 地址： | 100871*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种提高GaN L‑FER反向击穿电压的器件结构及其制作方法，所述结构包括衬底、GaN或AlN缓冲层、本征GaN沟道层、本征AlGaN势垒层、介质钝化层、阳极双肖特基接触以及阴极欧姆接触。在衬底上外延生长AlGaN/GaN异质结材料，并在该结构上形成欧姆接触、平面隔离之后，进一步形成双肖特基接触的阳极结构，最后淀积钝化层实现器件的钝化。本发明利用双肖特基接触的阳极结构，肖特基接触对反向击穿过程中的高压起到了一定的屏蔽作用，从而减少了从阳极经由器件沟道势垒层或者缓冲层注入到阴极的漏电流，进而提高了器件的反向击穿电压。本发明实现方法简单，能大幅度提高GaN L‑FER的反向击穿电压从而拓宽了其在电力电子领域中的应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 gan fer 反向 击穿 电压 器件 结构 实现 方法 | ||
【主权项】：
1.一种提高GaN L‑FER反向击穿电压的器件结构及实现方法，其特征在于：所述结构包括衬底、GaN或AlN缓冲层、本征GaN沟道层、本征AlGaN势垒层、介质钝化层、双肖特基阳极以及欧姆阴极；所述双肖特基阳极以及欧姆阴极均位于本征AlGaN势垒层之上，介质钝化层则位于最上层；在衬底上外延生长AlGaN/GaN异质结材料，并在该异质结材料上形成双肖特基阳极以及欧姆阴极，最后淀积钝化层实现器件的钝化。
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