[发明专利]一种基于静电诱导的图形化量子点薄膜制备方法

摘要

本发明公开了一种基于静电诱导的图形化量子点薄膜制备方法。该方法包括步骤（1）阵列模板的制备和处理；（2）量子点反应溶液的制备及涂覆；（3）静电诱导极板的放置；（4）静电诱导成型。本发明采用静电诱导和微结构模板结合的方法，实现量子点彩膜基板的制备，将量子点的制备过程和量子点彩膜阵列的成型过程结合在一起，一步到位；本发明方法操作简单，效率高，控制精度高，适用于红、绿、蓝量子点彩膜的成型，有效解决了现有技术存在的问题，降低了制造成本，适于大规模生产过程。

主权项

一种基于静电诱导的图形化量子点薄膜制备方法，其特征在于，包括以下步骤 ：（1）阵列模板的制备和处理：利用光刻和刻蚀工艺将导电平板表面加工出所需图形的微柱阵列结构，作为静电诱导过程的阵列模板；（2）量子点反应溶液的制备及涂覆：配置量子点的前驱体溶液及不良溶剂；将前驱体溶液涂覆于下平板的上表面形成量子点前驱体层，再将不良溶剂涂覆于上平板的下表面形成不良溶剂层；（3）静电诱导极板的放置：将阵列模板的微柱阵列结构面朝下放置在上平板的无溶液面上，将上、下平板涂覆溶液的表面向内放置，两板间放置垫块后压紧并水平放置，使上、下平板间留有空气间隙；（4）静电诱导成型：将阵列模板接直流电源正极，下平板接直流电源负极，打开电源进行静电诱导；静电诱导结束后，将上平板置于烤箱烘烤使多余的不良溶剂层烘干，留下所需的量子点阵列结构，得到量子点薄膜。