[发明专利]光学邻近校正方法有效
| 申请号： | 201710200670.1 | 申请日： | 2017-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN108663897B | 公开（公告）日： | 2021-06-08 |
| 发明（设计）人： | 李亮;杜杳隽;陈啸 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/36 | 分类号： | G03F1/36;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 吴敏 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种光学邻近校正方法，包括：提供目标图形；对所述目标图形边界进行初始分段，将所述目标图形边界分为多个片段；对所述初始分段后的目标图形进行OPC运算，获得OPC多边形；判断所述OPC多边形的长宽比是否在预先设定的阈值内；当OPC多边形的长宽比大于预先设定的阈值时，对与OPC多边形对应的目标图形边界进行重新分段，调整所述片段的长度；对所述重新分段后的目标图形进行OPC运算，获得校正后OPC多边形，且校正后OPC多边形的长宽比在预先设定的阈值内。本发明提供的光学邻近校正方法能够找出对目标图形进行分段后的坏点，及时对目标图形边界进行重新分段，使得获得的校正后OPC多边形可以很好的被OPC模型覆盖。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 邻近 校正 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学邻近校正方法，其特征在于，包括：提供目标图形；对所述目标图形边界进行初始分段，将所述目标图形边界分为多个片段；对所述初始分段后的目标图形进行OPC运算，获得OPC多边形；判断所述OPC多边形的长宽比是否在预先设定的阈值内；当所述OPC多边形的长宽比大于预先设定的阈值时，对与所述OPC多边形对应的目标图形边界进行重新分段，调整所述片段的长度；对所述重新分段后的目标图形进行OPC运算，获得校正后OPC多边形，且校正后OPC多边形的长宽比在预先设定的阈值内。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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