[发明专利]一种等离子体产生腔室和等离子体处理装置

摘要

本发明提供一种等离子体产生腔室和等离子体处理装置。该等离子体产生腔室包括介质筒和绕制在介质筒外壁的线圈，线圈用于将射频功率耦合至介质筒内，以激发介质筒内的气体产生等离子体，还包括磁性元件，磁性元件围设在线圈的远离介质筒的外侧，磁性元件能在介质筒内产生磁场，磁场的方向与介质筒的轴线夹角大于0°且小于180°。该等离子体产生腔室通过在介质筒的外围设置磁性元件，能够获得更高密度的等离子体，从而提高了晶圆表面的等离子体处理速率，并使等离子体处理速率能够达到工艺要求；而且还降低了等离子体中粒子的能量，避免了等离子体中粒子能量过高对晶圆表面造成损伤。

主权项

1.一种等离子体产生腔室，包括介质筒和绕制在所述介质筒外壁的线圈，所述线圈用于将射频功率耦合至所述介质筒内，以激发所述介质筒内的气体产生等离子体，其特征在于，还包括磁性元件，所述磁性元件围设在所述线圈的外侧，所述磁性元件能在所述介质筒内产生磁场，所述磁场的方向与所述介质筒的轴线夹角大于0°且小于180°。