[发明专利]一种MOCVD设备反应腔体

摘要

本发明公开了一种MOCVD设备反应腔体，包括腔体壁，其形成反应腔；腔体盖，其设置在反应腔的顶端开口处；载片盘，其设置在反应腔的底部；喷淋头，其设置在反应腔的顶部，喷淋头上设置有供不同气体进入反应腔的多种进气区域，每种进气区域上设置有喷淋口，喷淋口的出气端口与反应腔连通，喷淋口与所述载片盘垂直；多种进气管道，分别与对应的进气区域连通，进气管道的出气口穿过腔体盖与所述喷淋口的进气端口连通，进气管道的进气口位于所述腔体盖外。该MOCVD设备反应腔体使不同的气体经各自的进气管道进入，再通过与各自对应的进气区域上的喷淋口进入反应腔，使得反应腔内的气体分布均匀，进而使得进气时反应腔内的气场分布均匀。

主权项

一种MOCVD设备反应腔体，其特征在于，包括：腔体壁，其形成反应腔；腔体盖，其设置在所述反应腔的顶端开口处；载片盘，其设置在所述反应腔的底部；喷淋头，其设置在所述反应腔的顶部，所述喷淋头上设置有供不同气体进入所述反应腔的多种进气区域，每种进气区域上设置有喷淋口，所述喷淋口的出气端口与所述反应腔连通，所述喷淋口与所述载片盘垂直；多种进气管道，分别与对应的进气区域连通，进气管道的出气口穿过所述腔体盖与所述喷淋口的进气端口连通，所述进气管道的进气口位于所述腔体盖外。