[发明专利]一种定位基站和定位系统在审
申请号: | 201710205091.6 | 申请日: | 2017-03-31 |
公开(公告)号: | CN107144848A | 公开(公告)日: | 2017-09-08 |
发明(设计)人: | 张超 | 申请(专利权)人: | 成都理想境界科技有限公司 |
主分类号: | G01S17/06 | 分类号: | G01S17/06;G01S7/481 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 610041 四川省成都市*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种定位基站和定位系统,所述定位基站包括主体;旋转轴,设置于所述主体上,所述旋转轴的侧面设置有两个激光扫描器,所述两个激光扫描器对应的两个激光扫描面扫描到空间中同一点时的两个平面不重合,且任一激光扫描面不垂直于所述旋转轴;镜面机构,设置于所述主体上,所述镜面机构的镜面与所述旋转轴在同一侧。由于激光测量的精度在毫米级,并且定位速度在毫秒级,所以定位精度和定位速度相比于现有技术都大大提高,实现了精准和快速地实现空间定位的技术效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 定位 基站 系统 | ||
【主权项】:
一种定位基站,其特征在于,包括:主体;旋转轴,设置于所述主体上,所述旋转轴的侧面设置有两个激光扫描器,所述两个激光扫描器对应的两个激光扫描面扫描到空间中同一点时的两个平面不重合,且任一激光扫描面不垂直于所述旋转轴;镜面机构,设置于所述主体上,所述镜面机构的镜面朝向所述旋转轴的侧面、且能够反射所述两个激光扫描器出射的激光扫描线。
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