[发明专利]一种光绘拍摄装置、方法和移动终端有效

专利信息
申请号: 201710209579.6 申请日: 2017-03-31
公开(公告)号: CN107071277B 公开(公告)日: 2020-04-03
发明(设计)人: 陈小翔;张腾 申请(专利权)人: 努比亚技术有限公司
主分类号: H04N5/232 分类号: H04N5/232;H04N5/243;H04N5/225;H04M1/725;G06T7/00
代理公司: 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 代理人: 江婷;李发兵
地址: 518057 广东省深圳市南山区*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供了一种光绘拍摄装置、方法和移动终端,在长曝光模式下,通过双摄像模组中的第一摄像模组采集第一影像,同时通过第二摄像模组采集第二影像;在第一摄像模组采集第一影像时,根据第一影像和第二影像确定第一影像中光源轨迹的景深;再根据景深,以及所述光源轨迹中,超出基准平面的部分在基准平面上的投影,确定超出基准平面的部分的实际轨迹;然后将第一影像中,光源轨迹中未超出基准平面的部分与超出基准平面部分的实际轨迹合成。通过本发明的实施,通过在拍摄时,对光源轨迹的实时修正,有效的避免了偏差轨迹对光绘制作的影响,提升了光绘的精度,减少了光绘后期处理的几率和时间。
搜索关键词: 一种 拍摄 装置 方法 移动 终端
【主权项】:
一种光绘拍摄装置,其特征在于,包括:拍摄模块,用于在长曝光模式下,通过双摄像模组中的第一摄像模组采集第一影像,同时通过所述双摄像模组中的第二摄像模组采集第二影像;确定模块,用于在所述第一摄像模组采集第一影像时,根据所述第一影像和第二影像确定所述第一影像中光源轨迹的景深;修正模块,用于根据所述光源轨迹的景深,以及所述光源轨迹中,超出基准平面的部分在基准平面上的投影,确定所述超出基准平面的部分的实际轨迹;合成模块,用于将所述第一影像中,所述光源轨迹中未超出基准平面的部分与所述超出基准平面部分的实际轨迹合成。
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