[发明专利]具有自动清洗功能的蚀刻腔室及其清洗组件、清洗方法有效
申请号: | 201710209730.6 | 申请日: | 2017-03-31 |
公开(公告)号: | CN106971933B | 公开(公告)日: | 2018-10-19 |
发明(设计)人: | 蔡小龙 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;B08B3/02 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 钟子敏 |
地址: | 518006 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种具有自动清洗功能的蚀刻腔室及其清洗组件、清洗方法。该清洗组件包括第一喷淋机构和第二喷淋机构,第一喷淋机构用于喷淋蚀刻液,第二喷淋机构设置于第一喷淋机构的上方,第二喷淋机构用于在第一喷淋机构停止喷淋蚀刻液时喷淋清洗液,以对第一喷淋机构进行清洗。基于此,本发明能够对蚀刻腔室内进行随时清洗,减少蚀刻液挥发产生的结晶体,降低由结晶体导致的危害。 | ||
搜索关键词: | 具有 自动 清洗 功能 蚀刻 及其 组件 方法 | ||
【主权项】:
1.一种蚀刻腔室内的清洗组件,其特征在于,所述蚀刻腔室内设置有第一喷淋机构,用于喷淋蚀刻液,以对所述蚀刻腔室内的待蚀刻元件进行蚀刻,所述清洗组件包括第二喷淋机构,所述第二喷淋机构设置于所述第一喷淋机构的上方,所述第二喷淋机构包括喷淋管以及所述喷淋管上的多个呈螺旋状分布于所述喷淋管表面的喷淋嘴,用于在所述第一喷淋机构停止喷淋蚀刻液时喷淋清洗液,以对所述第一喷淋机构及蚀刻腔室进行清洗。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司,未经深圳市华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710209730.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种反应腔室和半导体设备
- 下一篇:一种质谱仪