[发明专利]具有自动清洗功能的蚀刻腔室及其清洗组件、清洗方法有效

专利信息
申请号: 201710209730.6 申请日: 2017-03-31
公开(公告)号: CN106971933B 公开(公告)日: 2018-10-19
发明(设计)人: 蔡小龙 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32;B08B3/02
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 钟子敏
地址: 518006 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种具有自动清洗功能的蚀刻腔室及其清洗组件、清洗方法。该清洗组件包括第一喷淋机构和第二喷淋机构,第一喷淋机构用于喷淋蚀刻液,第二喷淋机构设置于第一喷淋机构的上方,第二喷淋机构用于在第一喷淋机构停止喷淋蚀刻液时喷淋清洗液,以对第一喷淋机构进行清洗。基于此,本发明能够对蚀刻腔室内进行随时清洗,减少蚀刻液挥发产生的结晶体,降低由结晶体导致的危害。
搜索关键词: 具有 自动 清洗 功能 蚀刻 及其 组件 方法
【主权项】:
1.一种蚀刻腔室内的清洗组件,其特征在于,所述蚀刻腔室内设置有第一喷淋机构,用于喷淋蚀刻液,以对所述蚀刻腔室内的待蚀刻元件进行蚀刻,所述清洗组件包括第二喷淋机构,所述第二喷淋机构设置于所述第一喷淋机构的上方,所述第二喷淋机构包括喷淋管以及所述喷淋管上的多个呈螺旋状分布于所述喷淋管表面的喷淋嘴,用于在所述第一喷淋机构停止喷淋蚀刻液时喷淋清洗液,以对所述第一喷淋机构及蚀刻腔室进行清洗。
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