[发明专利]基于电阻抗成像技术的柔性传感器电极位置优化方法有效
| 申请号： | 201710211512.6 | 申请日： | 2017-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN107224287B | 公开（公告）日： | 2020-09-29 |
| 发明（设计）人： | 李锐;刘坤选;牟文俊;王晓杰 | 申请（专利权）人： | 重庆邮电大学 |
| 主分类号： | A61B5/053 | 分类号： | A61B5/053 |
| 代理公司： | 北京海虹嘉诚知识产权代理有限公司 11129 | 代理人： | 谢殿武 |
| 地址： | 400065 *** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本发明提供的一种基于电阻抗成像技术的柔性传感器电极位置优化方法，包括如下步骤：S1.在导电材料上布置电极形成传感器阵列，并采集中心电极的参考位置；S2.构建中心参考电极最佳位置优化目标函数，并对目标函数采用粒子群优化算法获取最佳中心电极位置；能够确定中心电极的最佳位置，从而提高柔性传感器的分辨率，降低目标位置误差，以及提高检测目标的区分度。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 阻抗 成像 技术 柔性 传感器 电极 位置 优化 方法 | ||
【主权项】：
一种基于电阻抗成像技术的柔性传感器电极位置优化方法，其特征在于：包括如下步骤：S1.在导电材料上布置电极形成传感器阵列，并采集中心电极的参考位置；S2.构建中心参考电极最佳位置优化目标函数，并对目标函数采用粒子群优化算法获取最佳中心电极位置。
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