[发明专利]一种蒸镀罩、蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法

摘要

本发明实施例提供一种蒸镀罩、蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法，涉及真空蒸发镀膜领域，能够解决现有的点蒸镀源在蒸镀过程中对待蒸镀基板上蒸镀区域不同位置处的蒸镀膜层厚度不均匀的问题。包括：支撑轴。调节罩，调节罩侧边设置在支撑轴上，调节罩上包括有镂空区域，蒸发状态的蒸镀材料可透过镂空区域，调节罩上的蒸镀材料透过率由中心向边缘逐渐增大。其中，支撑轴可转动，以带动调节罩移动覆盖于蒸镀源出口。通过转动支撑轴，使通过侧边固定在支撑轴上的调节罩移动位置，从而使得调节罩能够覆盖于蒸镀源出口，以对由蒸镀源出口蒸发的蒸镀材料向待蒸镀基板上各个位置处的蒸发速率进行调节。

主权项

1.一种蒸镀罩，其特征在于，包括：支撑轴；调节罩，所述调节罩侧边设置在所述支撑轴上，所述调节罩上包括有镂空区域，蒸发状态的蒸镀材料可透过所述镂空区域，所述调节罩上的蒸镀材料透过率由中心向边缘逐渐增大；其中，所述支撑轴可转动，以带动所述调节罩移动覆盖于蒸镀源出口；所述调节罩为包括有多个通孔的盖板，所述盖板上单位面积内通孔面积所占的比例由中心向边缘逐渐增大；其中，所述多个通孔孔径相同，且所述盖板上单位面积内通孔的分布密度由中心向边缘逐渐增大；或者，所述多个通孔在所述盖板上单位面积内的分布密度相同，且所述多个通孔的孔径由中心向边缘逐渐增大。