[发明专利]一种显示基板的制作方法、显示基板及显示装置在审
| 申请号： | 201710212804.1 | 申请日： | 2017-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN106950746A | 公开（公告）日： | 2017-07-14 |
| 发明（设计）人： | 冯玉春;王守坤;郭会斌 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1343;G09F9/00 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人： | 许静,刘伟 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种显示基板的制作方法、显示基板及显示装置。其中，制作方法包括在衬底基板上形成像素电极的步骤，形成所述像素电极的步骤包括在绝缘层上形成导电反射层，对导电反射层进行构图，形成导电反射图形；沉积透明导电层，对透明导电层进行构图，形成透明导电层的图形，透明导电层的图形包括有覆盖导电反射图形的第一部分；第一部分与导电反射图形组成所述像素电极。在本发明的方案中，透明导电层的第一部分覆盖导电反射图形，从而为导电反射图形提供保护，防止其反光面划伤；此外，在后续形成配向膜的过程中，透明导电层的第一部分将配向液与导电反射图形隔开，从而避免了配向液与导电反射图形接触而影响其反射率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 显示 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】：
一种显示基板的制作方法，包括在衬底基板上形成像素电极的步骤，其特征在于，形成所述像素电极的步骤包括：在绝缘层上形成导电反射层，并对所述导电反射层进行构图，形成导电反射图形；沉积透明导电层，对所述透明导电层进行构图，形成透明导电层的图形，所述透明导电层的图形包括有覆盖所述导电反射图形的第一部分；所述第一部分与所述导电反射图形组成所述像素电极。
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