[发明专利]密封构造、阀及密封构造的制造方法有效
| 申请号： | 201710213219.3 | 申请日： | 2017-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN107237895B | 公开（公告）日： | 2019-11-29 |
| 发明（设计）人： | 谷池司;麻生昌志 | 申请（专利权）人： | 纳博特斯克有限公司 |
| 主分类号： | F16K1/46 | 分类号： | F16K1/46;F16K1/34 |
| 代理公司： | 11277 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 刘新宇;张会华<国际申请>=<国际公布> |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够抑制受压面积的变动的密封构造、阀及密封构造的制造方法。密封构造包括：密封构件(12)，其具有密封面(12a)，能够在密封面(12a)落座于阀座(16)的位置和密封面(12a)自阀座(16)离开的位置之间移动；以及鼓出抑制部件(40)，其用于在密封构件(12)的密封面(12a)落座到阀座(16)时抑制密封面(12a)的沿着阀座(16)的位置鼓出。鼓出抑制部件(40)构成为，与密封构件(12)的与密封面(12a)相反的相反侧的部位相比提高密封面(12a)侧的部位的应力。 | ||
| 搜索关键词： | 密封 构造 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种密封构造，其中，/n该密封构造包括：/n密封构件，其具有密封面以及位于所述密封面相反侧的端面，能够在所述密封面落座于密封座的位置和所述密封面自所述密封座离开的位置之间移动；以及/n鼓出抑制部件，其用于在所述密封构件的所述密封面落座到所述密封座时抑制所述密封面的沿着所述密封座的位置鼓出；/n所述鼓出抑制部件构成为，与所述密封构件的端面侧的部位相比提高所述密封构件的密封面侧的部位的应力。/n
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