[发明专利]一种半连续铸造液穴熔体的电磁处理装置及其工作方法有效

专利信息
申请号: 201710214267.4 申请日: 2017-04-01
公开(公告)号: CN106925736B 公开(公告)日: 2018-12-28
发明(设计)人: 乐启炽;侯健;贾永辉;陈星瑞;宝磊;张志强 申请(专利权)人: 东北大学
主分类号: B22D11/115 分类号: B22D11/115;B22D11/16
代理公司: 大连东方专利代理有限责任公司 21212 代理人: 李洪福
地址: 110819 辽宁*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明公开了一种半连续铸造液穴熔体电磁处理装置及其工作方法,所述的装置包括可控硅控制器、可控硅组件、电解电容组、IGBT控制器、IGBT组件、霍尔传感器、负载线圈、PLC核心组件和触摸屏主令元件;负载线圈置于结晶器冷却水腔中。结晶器包括加工有润滑油道的内套、水箱介板、排气孔、线圈定位上下夹板、负载线圈、外套、封水板和出水孔。本发明通过调节频率、占空比和平均电流强度大小等负载线圈参数,可以在负载线圈上获得具有不同波形特点的电流,进而获得相应感应电磁场,并在液穴熔体中形成相应形式的强制对流。本发明完全可解决轻合金半连续铸造坯料不能完全满足塑性变形工艺对铸造坯料晶粒尺寸和成分均匀性要求的问题。
搜索关键词: 一种 连续 铸造 液穴熔体 电磁 处理 装置 及其 工作 方法
【主权项】:
1.一种半连续铸造液穴熔体电磁处理装置,其特征在于:包括变压器、可控硅控制器、可控硅组件、电解电容组、IGBT控制器、IGBT组件、霍尔传感器、负载线圈(10)、无级电容组、PLC核心组件、数显/控制表和触摸屏主令元件;所述的变压器的一端与三相交流电源连接,另一端依次与可控硅控制器、可控硅组件和电解电容组连接,所述的电解电容组还分别与无级电容组、IGBT组件和负载线圈(10)连接,所述的PLC核心组件分别与IGBT控制器、霍尔传感器和数显/控制表连接,所述的IGBT控制器与IGBT组件连接,所述的负载线圈(10)与霍尔传感器连接,所述的数显/控制表与触摸屏主令元件连接;所述的变压器起到电压变换和隔离保证操作安全作用;可控硅组件及可控硅控制器起整流作用;电解电容组是储能滤波单元;IGBT组件是功率元件,IGBT控制器是触发单元;负载线圈(10)与无级电容组并联构成LC震荡回路,所述的负载线圈(10)为矩形截面,由绝缘扁铜线缠绕而成;所述的霍尔传感器、数显/控制表、PLC核心组件和触摸屏主令元件构成信号检测与控制回路;其中的霍尔传感器对LC震荡回路中的电流信号进行检测,通过数显/控制表实时显示并与PLC核心组件进行信号传输,实现IGBT控制器对IGBT组件的控制;所述的负载线圈(10)置于结晶器冷却水腔(18)中;所述的结晶器包括加工有润滑油道(1)的内套(2)、水箱介板(4)、排气孔(5)、线圈定位上夹板(8)、负载线圈(10)、线圈定位下夹板(12)、外套(11)、封水板(14)和出水孔(15);所述的内套(2)、水箱介板(4)、外套(11)和封水板(14)构成冷却水腔(18);所述的外套(11)由侧板(6)与底板(13)焊接而成;所述的内套(2)上部设置润滑油道(1),所述的内套(2)与水箱介板(4)之间设置密封胶条(3),所述的外套(11)与水箱介板(4)之间设置排气孔(5),所述的外套(11)与内套(2)之间设置封水板(14),所述的内套(2)与封水板(14)连接处设置出水孔(15);所述的负载线圈(10)通过线圈定位上夹板(8)、线圈定位下夹板(12)、紧固螺母(7)和紧固螺杆(9)固定。
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