[发明专利]非分段GaN HEMT模型的建立方法有效
申请号: | 201710216087.X | 申请日: | 2017-04-01 |
公开(公告)号: | CN107103122B | 公开(公告)日: | 2020-04-10 |
发明(设计)人: | 李虹;赵星冉;孙凯;张波;吕金虎;郑琼林;孙湖 | 申请(专利权)人: | 北京交通大学 |
主分类号: | G06F30/3308 | 分类号: | G06F30/3308 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 张润 |
地址: | 100044*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: |
本发明提出一种非分段GaN HEMT模型的建立方法,包括:获取电压控制电流源I |
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搜索关键词: | 分段 gan hemt 模型 建立 方法 | ||
【主权项】:
一种非分段GaN HEMT模型的建立方法,其特征在于,包括以下步骤:获取电压控制电流源IDS、栅漏电容CGD、栅源电容CGS和漏源电容CDS;根据电压控制电流源IDS得到所述非分段GaN HEMT模型的静态特性,并根据所述静态特性建立非分段静态特性模型;根据所述栅漏电容CGD、栅源电容CGS和漏源电容CDS得到所述非分段GaN HEMT模型的动态特性,并根据所述动态特性建立非分段动态特性模型;根据所述非分段静态特性模型和非分段动态特性模型得到所述非分段GaN HEMT模型。
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