[发明专利]表膜有效

专利信息
申请号: 201710218250.6 申请日: 2017-04-05
公开(公告)号: CN107272327B 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 丸山公幸;中原辰典;藤川尊 申请(专利权)人: 旭化成株式会社
主分类号: G03F1/62 分类号: G03F1/62
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种表膜。[课题]目的在于提供:FPD用途中使用分辨率2.0μm及以下的曝光机时使用的面积1000cm2以上的表膜,其为对图案尺寸精度造成的影响少、被转印的图案中不产生不良情况的表膜。[解决手段]一种表膜,其包含:具备面积1000cm2以上的俯视矩形的开口部的表膜用框体;位于该表膜用框体的一个端面的以覆盖前述开口部的方式张开而得到支撑的表膜用膜;以及位于前述表膜用框体的另一个端面的掩模粘合剂,前述表膜用膜的膜厚为1.0μm以上且3.0μm以下,前述表膜用膜面内的膜厚波动为80nm以下。
搜索关键词: 表膜
【主权项】:
一种表膜,其包含:具备面积1000cm2以上的俯视矩形的开口部的表膜用框体;位于该表膜用框体的一个端面的以覆盖所述开口部的方式张开而得到支撑的表膜用膜;以及位于所述表膜用框体的另一个端面的掩模粘合剂,所述表膜用膜的膜厚为1.0μm以上且3.0μm以下,所述表膜用膜面内的膜厚波动为80nm以下。
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