[发明专利]光源系统及投影设备有效
| 申请号： | 201710222725.9 | 申请日： | 2017-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN108693688B | 公开（公告）日： | 2020-09-15 |
| 发明（设计）人： | 郭祖强;杜鹏;李屹 | 申请（专利权）人： | 深圳光峰科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20;G02B27/09 |
| 代理公司： | 广东广和律师事务所 44298 | 代理人： | 陈巍巍 |
| 地址： | 518000 广东省广州市南山区粤*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光源系统及投影设备。该光源系统包括光源，用于发出相互平行的多束光束；匀光器件，用于调整源光的均匀性，所述匀光器件为双排微透镜阵列，所述源光避开所述双排微透镜阵列上的凹陷区；中继模组，用于将光束汇聚并成像。通过上述方式，本发明成本低、效率高，而且照度均匀，具有良好的用户体验。 | ||
| 搜索关键词： | 光源 系统 投影设备 | ||
【主权项】：
1.一种光源系统，其特征在于，所述光源系统包括：光源，用于发出源光，所述源光包括相互平行的多束光束；匀光器件，所述源光入射至匀光器件，所述匀光器件用于调整所述源光的均匀性，所述匀光器件为双排微透镜阵列，所述双排微透镜阵列的透镜表面中心具有凹陷区，所述多束光束避开所述双排微透镜阵列上的凹陷区；中继模组，用于将光束汇聚并成像。
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