[发明专利]一种CVD构建CsPbBr3纳米片电致发光器件的方法有效
申请号: | 201710225090.8 | 申请日: | 2017-04-07 |
公开(公告)号: | CN107123706B | 公开(公告)日: | 2019-05-03 |
发明(设计)人: | 潘安练;胡学鹿;朱小莉 | 申请(专利权)人: | 湖南大学 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L33/26;C23C16/30 |
代理公司: | 长沙市融智专利事务所(普通合伙) 43114 | 代理人: | 颜勇 |
地址: | 410082 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明涉及一种CVD构建CsPbBr3纳米片电致发光器件的方法。其制备方法为:将摩尔比为1.85‑2.05:1的CsBr和PbBr2粉装入瓷舟壹(1),并将刻蚀有电极的ITO玻璃片平铺于瓷舟贰(2)上后,将瓷舟壹(1)置于水平管式炉的中部,将瓷舟贰(2)置于水平管式炉中靠近出气口的一端;通入载气,排出炉内空气后,通入载气,并升温至瓷舟壹(1)的加热温度为570‑600℃、瓷舟贰(2)的加热温度为300‑400℃,进行沉积,得到产品。本发明首次用一种简单的方法在ITO电极上构建了CsPbBr3纳米片器件,并得到了在电注入下的发光。所得器件性能高效稳定,可以应用于纳米级光电集成电路。 | ||
搜索关键词: | 一种 cvd 构建 cspbbr3 纳米 电致发光 器件 方法 | ||
【主权项】:
1.一种CVD构建CsPbBr3纳米片电致发光器件的方法;其特征在于:将摩尔比为1.85‑2.05:1的CsBr和PbBr2粉装入瓷舟壹(1),并将刻蚀有电极的ITO玻璃片平铺于瓷舟贰(2)上后,将瓷舟壹(1)置于水平管式炉的中部,将瓷舟贰(2)置于水平管式炉中靠近出气口的一端;通入载气,排出炉内空气后,持续通入载气,并升温至瓷舟壹(1)的加热温度为570‑600℃、瓷舟贰(2)的加热温度为300‑400℃,载气将CsBr和PbBr2蒸汽送至ITO玻璃片并沉积得到所述CsPbBr3纳米片;沉积时,载气流速为30‑70sccm、炉内压力为280‑320Torr。
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