[发明专利]一种基于双折射相位片的单光路矢量光场产生方法在审
| 申请号： | 201710227842.4 | 申请日： | 2017-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN106842604A | 公开（公告）日： | 2017-06-13 |
| 发明（设计）人： | 史立芳;王佳舟;曹阿秀;张满;庞辉;邓启凌 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G02B27/28 | 分类号： | G02B27/28;G02B5/32 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于双折射相位片的单光路矢量光场产生方法，涉及光场调控、微细加工等领域。该方法所涉及的结构主要由一片双折射相位片和相位解调模组组成，偏振光依次通过双折射相位片和相位解调之后，获得所要求的矢量光场。所产生的矢量光场分布主要由双折射相位片上的面形分布决定，所用的材料为具有双折射效应的材料；双折射相位片是通过深度分布来实现入射光的相位调制；相位解调模组是根据目标光场分布与双折射相位片产生光场之间的关系推导获得的；双折射相位片，相位解调模组均可以采用光刻的方法制备获得。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 双折射 相位 单光路 矢量 产生 方法 | ||
【主权项】：
一种基于双折射相位片的单光路矢量光场产生方法，其特征在于：该方法所涉及的结构主要由一片双折射相位片和相位解调模组组成，偏振光依次通过双折射相位片和相位解调之后，获得所要求的矢量光场。
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