[发明专利]线栅偏光片的制造方法有效
| 申请号： | 201710229584.3 | 申请日： | 2017-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN106940458B | 公开（公告）日： | 2019-07-12 |
| 发明（设计）人： | 李冬泽 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 钟子敏 |
| 地址： | 518006 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种线栅偏光片的制造方法，该制造方法包括：设定图案数据，图案数据与线栅偏光片的线栅结构对应，线栅结构包括多条间隔设置的线栅；制备金属离子溶液；将载体基板的至少一个表面浸没在金属离子溶液中；利用发射设备向载体基板发射电子束，并根据图案数据控制电子束运动，以在载体基板上电子束经过的位置沉积金属形成线栅结构。通过上述方式，本发明的线栅偏光片制程简单且制造精度高，利于产业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 偏光 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种线栅偏光片的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：设定图案数据，所述图案数据与所述线栅偏光片的线栅结构对应，所述线栅结构包括多条间隔设置的线栅；制备金属离子溶液；将载体基板的至少一个表面浸没在所述金属离子溶液中；利用发射设备向所述载体基板发射电子束，并根据所述图案数据控制所述电子束运动，以在所述载体基板上所述电子束经过的位置沉积金属形成所述线栅结构；其中，所述将载体基板的至少一个表面浸没在所述金属离子溶液中包括：将所述金属离子溶液封装在两块载体基板之间。
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