[发明专利]彩膜基板的制作方法及液晶面板的制作方法有效
申请号: | 201710229957.7 | 申请日: | 2017-04-10 |
公开(公告)号: | CN106896571B | 公开(公告)日: | 2019-01-15 |
发明(设计)人: | 邓竹明 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1333 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公布了一种彩膜基板的制作方法,包括:提供第一基板,所述第一基板包括像素单元区与位于所述像素单元区之间的遮光区,在所述第一基板上涂布光阻材料,曝光所述像素单元区形成单色阻块,部分曝光所述遮光区形成色阻垫块;涂布黑色光阻材料于所述遮光区,并且所述黑色光阻材料覆盖所述色阻垫块;曝光所述黑色光阻材料,使得位于所述遮光区的所述黑色光阻材料形成黑色矩阵,覆盖所述色阻垫块的所述黑色光阻材料形成间隔柱。本发明还公布了一种液晶面板的制作方法。以色阻垫块为衬底的黑色光阻材料曝光后形成间隔柱,遮光区其他部分的黑色光阻材料曝光后形成黑色矩阵,该曝光过程使用普通光罩即可实现,彩膜基板的制作成本低。 | ||
搜索关键词: | 彩膜基板 制作方法 液晶面板 | ||
【主权项】:
1.一种彩膜基板的制作方法,其特征在于,包括:提供第一基板,所述第一基板包括像素单元区与位于所述像素单元区之间的遮光区,在所述第一基板上涂布光阻材料,曝光所述像素单元区形成单色阻块,部分曝光所述遮光区形成色阻垫块,所述色阻垫块包括第一色阻垫块和第二色阻垫块,所述色阻垫块包括垂直于所述第一基板的高度尺寸,所述第一色阻垫块的所述高度尺寸与所述第二色阻垫块的所述高度尺寸相等,所述第一色阻垫块在所述遮光区的正投影尺寸与所述第二色阻垫块在所述遮光区的正投影的尺寸不同;涂布黑色光阻材料于所述遮光区,并且所述黑色光阻材料覆盖所述色阻垫块;曝光所述黑色光阻材料,使得位于所述遮光区的所述黑色光阻材料形成黑色矩阵,覆盖所述色阻垫块的所述黑色光阻材料形成间隔柱。
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