[发明专利]膜形成方法

摘要

本发明提供在室温下高速且被覆性良好地成膜化合物的膜的方法。该方法的膜形成装置具备分别蓄积第一原料气体和第二原料气体的蓄积机构、对第一原料气体及第二原料气体进行加热的瞬间加热部、和放置有温度低于瞬间加热部的加热温度的基体的反应室，将在蓄积机构蓄积的第一原料气体和第二原料气体通过瞬间加热部而生成第一气体分子种和第二气体分子种，使该第一气体分子种和第二气体分子种向放置有基体且被减压的一定容量的反应室突出而进行供给，使第一气体分子种的分压和第二气体分子种的分压急剧上升，对基体的表面交替反复导入第一气体分子种或第二气体分子种，使第一气体分子种或第二气体分子种发生反应，从而在基体的表面形成化合物膜。

主权项

一种在膜形成装置中的膜形成方法，所述膜形成装置具备：分别蓄积第一原料气体和第二原料气体的蓄积机构、对所述第一原料气体及所述第二原料气体进行加热的瞬间加热部、和放置有温度低于所述瞬间加热部的加热温度的基体的反应室，所述膜形成方法中，将在所述蓄积机构蓄积的所述第一原料气体和所述第二原料气体通过所述瞬间加热部而生成第一气体分子种和第二气体分子种，使该第一气体分子种和第二气体分子种向放置有所述基体且被减压的一定容量的所述反应室突出而进行供给，使所述第一气体分子种的分压和所述第二气体分子种的分压急剧上升，对所述基体的表面交替反复导入所述第一气体分子种或所述第二气体分子种，使所述第一气体分子种或所述第二气体分子种发生反应，从而在所述基体的表面形成化合物膜。