[发明专利]一种掩模版基版Cr缺失的检测方法有效

专利信息
申请号: 201710233778.0 申请日: 2017-04-11
公开(公告)号: CN106959575A 公开(公告)日: 2017-07-18
发明(设计)人: 刘浩;王兴平;尤春;刘维维;沙云峰;胡超;季书凤;朱希进;钱奇;薛文卿 申请(专利权)人: 无锡中微掩模电子有限公司
主分类号: G03F1/84 分类号: G03F1/84
代理公司: 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙)11411 代理人: 刘刚
地址: 214000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种掩模版基版Cr缺失的检测方法,包括以下步骤:1)、将掩模版涂有光刻胶玻璃面朝上,放在白光下照射;2)、将照射完的掩模版放在显影机里显影;3)、蚀刻机中进行蚀刻;4)、在光学量测设备上扫描蚀刻完的掩模版。本发明的掩模版背曝检测方法使用现有的工艺设备完成,无需其它支撑性设备;曝光时在白光下曝光,无需使用曝光机台和检测机台,有效地减轻了曝光机和检测机台压力,提高产能,操作简便,快捷高效。
搜索关键词: 一种 模版 cr 缺失 检测 方法
【主权项】:
一种掩模版基版Cr缺失的检测方法,其特征在于,包括以下步骤:1)、将掩模版涂有光刻胶玻璃面朝上,放在白光下照射;2)、将照射完的掩模版放在显影机里显影;3)、蚀刻机中进行蚀刻;4)、在光学量测设备上扫描蚀刻完的掩模版。
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