[发明专利]基于sCMOS的共聚焦超分辨成像系统和方法有效
| 申请号： | 201710237610.7 | 申请日： | 2017-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN107144551B | 公开（公告）日： | 2020-01-24 |
| 发明（设计）人： | 刘春祥;胡洁;何涛;黄海清;戚进;沈健;胡方凯 | 申请（专利权）人： | 上海戴泽光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64 |
| 代理公司： | 31236 上海汉声知识产权代理有限公司 | 代理人： | 郭国中 |
| 地址： | 201400 上海市奉*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种基于sCMOS的共聚焦超分辨成像系统和方法，用sCMOS相机代替传统的PMT探测器和小孔，由原来的点对点成像转为点对面成像，并选取一定组合的像元组合形成虚拟小孔，在获取扫描点对应子图像之后，运用像素重分配理论合成小孔内各像元对样本的分图像，再使用分图像加权求和算法合成最终图像，提升成像的分辨率。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 scmos 聚焦 分辨 成像 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于sCMOS的共聚焦超分辨成像方法，其特征在于，包括：/n步骤1：通过扫描样本，获取各扫描点对应的子图像；/n步骤2：确定所述子图像的激发光中心；/n步骤3：为各子图像添加虚拟小孔，其中，虚拟小孔是指窗函数；/n步骤4：像素重分配；/n步骤5：组合虚拟小孔内像元采集到的像素形成分图像，并对所述分图像作去卷积处理；/n步骤6：将各分图像合成最终的图像；/n扫描样本共获得N个扫描点，每个扫描点在sCMOS上所形成子图像的像元个数为N
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