[发明专利]缺陷检查方法和缺陷检查系统有效
| 申请号： | 201710240030.3 | 申请日： | 2017-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN107305190B | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 安藤雄太 | 申请（专利权）人： | 东京威尔斯股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 万利军;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种缺陷检查方法和缺陷检查系统，通过简单的构成容易且准确地检测被检查物的缺陷。缺陷检查方法包括：对被检查物(W)进行拍摄从而得到拍摄图像的工序；和将拍摄图像的像素的颜色分量配置于将红、绿、蓝中的两种颜色分量作为纵轴和横轴的二维分布图上的工序。在二维分布图上，分割为缺陷分布区域的像素与噪声分布区域的像素，选拔所分割出的缺陷分布区域的像素。将选拔出的像素应用到像素原来所处的位置来生成限定拍摄图像，使用限定拍摄图像进行缺陷检查。 | ||
| 搜索关键词： | 缺陷 检查 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种缺陷检查方法，其特征在于，包括：照明工序，将光照射到被检查物的表面；拍摄工序，对被检查物的表面进行拍摄从而得到拍摄图像；配置工序，从拍摄图像中提取出应该检测缺陷的缺陷分布区域和不需要检测缺陷的噪声分布区域，并将处于各区域的像素的颜色分量配置于将红、绿和蓝中的两种颜色分量作为纵轴及横轴的二维分布图上；分割工序，在二维分布图上由分割直线将构成缺陷分布区域的像素和构成噪声分布区域的像素分割开；选拔工序，选拔出在二维分布图上被分割直线分割开的两个区域中的属于缺陷分布区域侧的像素；限定工序，将在选拔工序中选拔出的像素应用到拍摄图像中该像素原来所处的位置而生成限定拍摄图像；以及检查执行工序，使用限定拍摄图像来执行缺陷检查。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京威尔斯股份有限公司，未经东京威尔斯股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710240030.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
