[发明专利]一类新型可溶液加工9，9－二芳基芴小分子发光材料的制备与光电器件有效
| 申请号： | 201710242358.9 | 申请日： | 2017-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN106967056A | 公开（公告）日： | 2017-07-21 |
| 发明（设计）人： | 韩亚敏;白鲁冰;林进义 | 申请（专利权）人： | 南京工业大学 |
| 主分类号： | C07D409/14 | 分类号： | C07D409/14;C07D417/14;C07D209/86;C07D401/14;C09K11/06;H01L51/50;H01L51/54 |
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| 地址： | 211800 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明基于拜耳‑维立格重排制备了一种芴的4位烷氧链的末端具有有共轭取代基团的9，9‑二芳基芴类发光材料，属于有机光电材料领域。具体为通过拜耳‑维立格重排反应和Suzuki耦合反应制备了4位含有多种共轭结构取代基团的9，9‑二芳基芴类三基色发光材料，并将此种类型材料应用于有机发光二极管、有机激光器等光电子领域，本发明提供的材料合成制备工艺简单，原料成本低，可通过溶液加工的方式进行器件制备并应用于柔性电子、印刷电子领域，是一种具有潜力的有机光电材料。 | ||
| 搜索关键词： | 一类 新型 溶液 加工 二芳基芴小 分子 发光 材料 制备 光电 器件 | ||
【主权项】：
基于拜耳‑维立格重排制备的4位烷氧链末端具有共轭取代基团的9，9‑二芳基芴类三基色发光材料，其特征在于该材料的主要单元是通过拜耳‑维立格重排和格氏反应制备，其中芴的4位烷氧链的末端是共轭取代基团，9位为二芳基取代基团，该材料具有如下通式结构：式中：R具有4～8个碳原子的烷基链或者烷氧基链；Ar1可以为苯基、咔唑、二苯胺等共轭结构单元，例如：
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