[发明专利]等离子体化学气相沉积微波谐振腔及装置有效
申请号: | 201710244250.3 | 申请日: | 2017-04-14 |
公开(公告)号: | CN106987827B | 公开(公告)日: | 2019-03-29 |
发明(设计)人: | 于盛旺;郑可;高洁;鲁明杰;王洪孔;李亮亮;任咪娜 | 申请(专利权)人: | 太原理工大学 |
主分类号: | C23C16/511 | 分类号: | C23C16/511 |
代理公司: | 太原倍智知识产权代理事务所(普通合伙) 14111 | 代理人: | 骆洋 |
地址: | 030024 *** | 国省代码: | 山西;14 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明为一种等离子体化学气相沉积微波谐振腔,达到了提高谐振腔聚焦能力和配置灵活性的目的。该谐振腔包括两个顶部相交的等腰三角形布尔并集运算后形成的回转体,其中等腰三角形的底边边长为2nλ~(2n+0.5)λ,底角为50°~75°,两个等腰三角形的底边长相等或相差nλ,上等腰三角形的重心与下等腰三角形的重心间距为0~4/5λ,其中λ为微波波长。本发明利用了电磁波的反射和干涉原理,通过调节上、下等腰三角形的底边长、底边角度以及二者之间的中心距离形成强聚焦电场。同时,该谐振腔能够根据具体的应用选择不同的介质窗口、微波耦合方式以及反应气体进出方式,具有结构简单、方便灵活等特点。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 化学 沉积 微波 谐振腔 装置 | ||
【主权项】:
1.一种等离子体化学气相沉积微波谐振腔,其特征在于:该微波谐振腔包括两个顶部相交的等腰三角形布尔并集运算后形成的回转体,该回转体内部形成上腔体(1)和下腔体(2),其中等腰三角形的底边边长为2nλ~(2n+0.5)λ,其中,n为整数,λ为微波波长,底角为50°~75°,两个等腰三角形的底边长相等或相差nλ,n为整数,上等腰三角形的重心与下等腰三角形的重心间距为0~4/5λ。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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